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浙江邁創(chuàng)微電子技術有限公司在浙江省杭州市臨安區(qū)青山湖科技城投資建設有一個國內先進的新型高端芯片研發(fā)中試基地。中試基地采用12英寸、28納米集成電路制造工藝，引進浸沒式光刻機、金屬物理氣相沉積和透射電子顯微鏡等設備，致力于建設成為國內領先、國際一流，集研發(fā)和產業(yè)化于一體的微納技術研發(fā)中試線。主要面向國內從事與微納技術相關的企業(yè)、高校和科研院所，提供新型存儲器、新一代圖像傳感器等產品從技術研發(fā)到中試生產的服務。
本中試線具有以下特點：
1.???? 完備性。中試線集成了基于先進光刻工藝的芯片研發(fā)的整體設備，實現(xiàn)了從基片到成品的工藝完整性，擁有常規(guī)和個性化的檢測設備，適合于新型集成化電子器件的研發(fā)。
2.???? 先進性。中試線可以實現(xiàn)28納米線寬的器件光刻，是國內最先進的微電子特色工藝加工中試線。
3.???? 獨特性與唯一性。中試線是國內唯一、國際上也為數(shù)不多的同時具備研發(fā)與加工微電子半導體器件、自旋電子器件、傳感器等器件的技術平臺。
4.???? 具有產品試制和小批量生產供貨的能力。中試線可以進行新型器件的研發(fā)，也可以在器件研發(fā)成功的基礎上進行中試和小批量生產，為大批量生產奠定基礎，可以縮短從研發(fā)到量產的進程。
5.???? 具備中試和規(guī)模化量產的無縫連接。中試線具有跟量產線無縫對接的設計、廠房、設備等，可以縮短中試轉量產的時間，減少轉移的技術風險。